最佳答案DUV是深紫外线。EUV是极深紫外线。从制程范围来看。DUV基本上只能做到25nm。Intel凭借双工作台的模式做到了10nm。但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造。并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
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本文标题：「已回复」duv和euv技术区别
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