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什么是所有类型的半导体?
所有类型的半导体都是硅、锗和硒,其中硅和锗的应用最为广泛。
常用的半导体材料分为元素半导体和化合物半导体。二元化合物半导体包括III-V族化合物(如砷化镓、磷化镓、磷化铟),II-VI族化合物(如硫化镉、硒化镉、碲化锌、硫化锌),IV-VI族化合物(如硫化铅、硒化铅),IV-IV族化合物(如碳化硅)。
半导体
在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率功率转换等领域都有应用。例如,二极管是由半导体制成的器件。
无论从科技还是经济发展的角度,半导体的重要性都是巨大的。大多数电子产品,如电脑、手机或数码录音机,都与半导体密切相关。
什么是半导体?
锗、硅、硒、砷化镓、许多金属氧化物和金属硫化物。导体和绝缘体之间具有导电性的半导体称为半导体。
半导体有一些特殊的性质。比如半导体电阻率与温度的关系,可以作为热敏电阻用于自动控制;利用其光敏特性,可制成光敏元件用于自动控制,如光伏电池、光电池、光敏电阻等。
半导体还有另一个最重要的特性。如果在纯半导体中适当掺杂少量杂质,其电导率将增加数百万倍。这一特性可用于制造各种半导体器件,如半导体二极管和三极管。
当半导体的一面做成P型区,另一面做成N型区时,在结附近形成一层具有特殊性质的薄层,一般称为PN结。图的上半部分分为p型半导体和n型半导体界面两侧的载流子扩散(用黑色箭头表示)。中间部分是PN结的形成过程,表示载流子的扩散效应大于漂移效应(蓝色箭头表示内建电场方向)。下部是PN结的形成。代表扩散和漂移之间的动态平衡。
半导体的种类有哪些?
I. n型半导体
n型半导体又叫电子半导体,即自由电子浓度远大于空空空穴浓度的杂质半导体。
形成原理
掺杂和缺陷会增加导带中的电子浓度。对于锗和硅半导体材料,ⅴ族元素的掺杂可以在杂质原子取代晶格中的锗和硅原子时,提供一个除共价键配位之外的额外电子,导致导带中的电子浓度增加。这种杂质原子称为施主。III-V族化合物半导体的施主通常采用IV或VI元素。有些氧化物半导体在化学比上往往表现为缺氧,而这些氧空位可以表现出施主的作用,所以这些氧化物通常表现为电子导电性,也就是N型半导体,缺氧的程度可以通过实空加热进一步加强。
两个。p型半导体
p型半导体一般指空/[k0/]空穴型半导体,以正电荷空空空穴导电为主。
形式
p型半导体是通过在纯硅晶体中掺杂三价元素(如硼)来取代硅原子在晶格中的位置而形成的。在p型半导体中,空空空穴是多载流子,自由电子是少数载流子,主要由空空穴传导。p型半导体是电中性的,因为正电荷的数量等于负电荷的数量。空空空穴主要由杂质原子提供,自由电子由热激发形成。
扩展数据
特点:
(1) n型半导体
n型半导体是电中性的,因为正负电荷相等。自由电子主要由杂质原子提供,热激发形成空空空穴。掺杂的杂质越多,许多电子(自由电子)的浓度越高,导电性越强。
(2) p型半导体
掺杂的杂质越多,很多离子(空空空穴)的浓度越高,导电性越强。
百度百科-n型半导体
百度百科-P半导体
常见的半导体材料有哪些?
常见的半导体材料如下:
锗和硅是最常用的元素半导体;化合物半导体包括III和V族化合物(砷化镓、磷化镓等。)、II和VI化合物(硫化镉、硫化锌等。)、氧化物(锰、铬、铁、铜的氧化物)、固溶体(镓铝砷、镓砷磷等。).)由ⅲ-ⅴ族化合物和ⅱ-ⅵ族化合物组成。除了上述晶体半导体,还有非晶玻璃半导体和有机半导体。
半导体的分类按其制造工艺可分为集成电路器件、分立器件、光电半导体、逻辑ic、模拟ic、存储器等类别。一般来说,这些会被分成小类。此外,还有根据应用领域和设计进行分类的方法。虽然不常用,但仍按IC、LSI、VLSI及其规模分类。此外,还有* * *根据信号的处理方式对信号进行分类,分为模拟、数字、模数混合和函数。
半导体材料的特性和优势
半导体材料是具有半导体性质的电子材料,用于* * *半导体器件。常用的重要半导体的导电机理是通过电子和空空空穴来实现的,所以有相应的N型和P型。半导体材料通常具有一定的带隙,其电学特性容易受到外界条件(如光照、温度)的影响。).
通过掺杂特定的杂质来制备具有不同导电类型的材料。杂质(特别是重金属快扩散杂质和深能级杂质)对材料的性能影响很大。
因此,半导体材料要有高纯度,这不仅要求生产半导体材料所用的原料纯度高,而且要求生产环境超净,以尽量减少生产过程中的杂质污染。半导体材料多为晶体,半导体器件对材料的晶体完整性要求较高。此外,对材料的各种电参数的均匀性也有严格的要求。
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